开课啦 !ZEMAX 线下培训十一月将在深圳举办
培训课程一:ZEMAX 成像光学系统设计
课程大纲
1 Zemax OpticStudio简介
2 数据库;镜头库,材料库
3 玻璃材料以及如何定义新材料
4 像差简介以及OpticStudio中的像差图表
5 优化
6 局部/全局/锤形优化/优化操作数
7 优化实例:单透镜/双透镜
8 热分析
9 二元面及衍射光学表面
10 鬼像及杂散光分析
11 调制传递函数和成像质量评估
12 双高斯镜头的设计与优化
13 OpticStudio中的坐标系统
14 坐标间端面及其使用技巧
15 序列模式中饿棱镜模型
16 实例:扫描振镜
17 实例:科勒照明
18 转换为非序列模式
19 黑盒系统
20 OpticStudio中的优化工具
21 寻找最佳非球面/转换非球面类型
22 公差分析简介
23 制造误差和装配误差
24 公差评价标准
25 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析
26 公差补偿器
27 公差操作数
28 公差示例:对单透镜/库克三片镜进行公差分析
29 公差报告
30 镜片/CAD制图
培训课程二:ZEMAX 照明设计与杂散光分析
课程大纲
01 非序列光线追迹
02 光源物体
03 探测器物体
04 分辨率 VS 噪声
05 照明单位 & 几何量
06 光源建模
07 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型
08 光源建模:Source Radial
09 光原建模:内置几何模型
10 光原建模:使用测量数据
11 生成 Source Model 光线
12 模拟光源光谱
13 色度学
14 建模彩色光源
15 测量颜色数据
16 照明系统
17 抛物面反射器
18 Sobol 采样
19 BMP 位图优化
20 复合抛物面聚光器 CPC
21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列
22 复杂几何体
23 嵌套规则
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体
25 CAD 导入 & 导出
26 使用混合模式
27 偏振光线追迹
28 物体属性:面分组 & 属性
29 光线分裂
30 X-Cube 棱镜
31 简单光线分裂
32 非序列设置
33 故障排查:光线追迹中止条件
34 故障排查:几何错误
35 “ Inside of ” 标识
36 故障排查:胶合距离
37 故障排查:面元物体 & 绘图精度
38 序列模式转换成非序列模式
39 杂散光分析介绍
40 散射
41 杂散光分析工具
42 Maksutov 杂散光分析
43 非序列鬼像分析
44 非序列系统公差分析
课程信息
主办单位:武汉宇熠科技有限公司
培训地点:深圳
培训讲师:武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师
培训费用:费用均为 3680元/人 (包含午餐费用)
活动优惠:同时报名两场培训可享九折优惠;三人及以上组团报名可享受八折优惠!
课程日期:2020 年 11 月 9 日 - 11 日 ( 9 :00 - 17 : 00 ,为期三天)
2020 年 11 月 12 日 - 14 日 ( 9 :00 - 17 : 00 ,为期三天)
报名方式
联系方式
电话:027-87878386
邮箱:sales@ueotek.com
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