OpTaliX | 鬼像分析

OpTaliX提供最真实准确的鬼像分析。通过分析所有可能的透镜表面，软件所提供的全自动搜索功能有助于分析鬼像产生的原因。它包含在光学表面，因材料吸收及渐晕中的多层膜波长的相关影响而产生。下图呈现的是在透镜中包含AR材料和吸收10片式镜头元件目标所呈现的鬼像。

鬼像分析是基于内置的逆光线追迹算法，它不需要重建光学系统，只要插入和复制表面，就可以表示鬼像路径。它允许瞬时鬼像分析，也可以用非常快速的方法去确定最大干扰的表面组合。

鬼像是由于光学系统对表面间进行分析，形成了意想不到的图像。透镜表面具有的反射光强度取决于应用于这些表面的玻璃折射率本身的增透膜类型。透镜内表面的光反射将被再次反射，可能形成靠近成像表面的图像。这样虚拟的图像被称为鬼像。

表面可能的组合数有助于n（n-1）/2的鬼像，其中n指在系统里透镜表面的数值。表面数值增长，鬼像概率也随之增长。具有10个镜头（20个表面）的变焦镜头可产生190个可能的鬼像。

不同于其他光学设计程序，OpTaliX不要求预选传轴基础和最大干扰的鬼面对（如果不是全部出错这可能是极具误导性的），不需要建立每个鬼面对的设计，也不需要编写宏去存储大量数据到文件中，或根据需要在其他软件包显示外部程序提供的数据。

OpTaliX完全可以避免和效率低下的工作。注意下图呈现的是从零开始，约20 分钟，1.7 GHz 的奔腾机，包含所有的表面组合体，AR材料和对吸收的影响。而在其他程序中你将需要几小时或几天去创建和测试宏和软件的接口。

示例表明的是在一个径向内元件的鬼线追迹，第一次的反射发生在表面三而第二次的反射发生在表面二。表面数值说明更多虚拟表面不需要模拟鬼路径。由此可见，鬼像分析是瞬时的。

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