ThinFilm View 光学薄膜设计软件介绍
ThinFilm View 光学薄膜设计软件,直觉式操作,容易上手。即时运算系统,立即显示运算结果。实用于生产管理与教育训练之薄膜设计软件。
即时运算系统,立即显示运算结果。以滑鼠控制滑动尺、上下键,可快速变更膜厚、折射率。膜厚亦可用键盘来做变更(箭头键,PgUp,PgDn 键)。
多张标籤工作表,最多可同时设计20个膜资料。每张纸的计算结果迭加在波长图和入射角图上。
可以同时显示图形和数值,例如波长特性,入射角特性,颜色计算和光学沉积监视器。
即使是具有高分辨率显示的字符也不会模糊。根据Windows缩放设置缩放字符。您还可以设置字体和字体大小。
以滑鼠控制滑动尺、上下键,可快速变更膜厚、折射率。就能同时显示多种曲线图,
从各种视点进行薄膜设计。多张标记工作表,最多可同时设计20个膜资料。高分辨率显示兼容。
通常监控的膜厚和制品基板的膜厚会不同,且设计上的折射率(大气中)和成膜中(真空中)的折射率也不一样。而 TFV 软件则能考虑上述问题进行模拟。
根据选择「反面」,由表面侧的入射光与反面测的入射光电场强度将可同时显示。
显示所有表的计算结果,因此能够计算各膜资料之间的色差。
XYZxy, CIE L*a*b*, L*C*h, Hunter Lab, L*u*v*, UCS, Whiteness Index, Yellowness Index, sRGB, CIE2000, Dominant Wavelength。
A, B, C, D50, D55, D65, D75, E, F1, F2, F3, F4, F5, F6, F7, F8, F9, F10, F11, F12, ID50, ID65。您也可以将自己的光源数据注册为 csv 文件。
某层的膜厚、折射率、吸收系数的误差,于调查会对光学特性会造成多少程度影响时及调查设计值与实际成形薄膜的光学特性的乖离发生在哪一层时 (Mismatch解析)、及依据 Monte Carlo simulation 调查制造变异时(制造误差解析)使用。
波长曲线图 Monte Carlo simulation
颜色计算 Monte Carlo simulation:您可以为每个图层指定每个薄膜厚度,折射率和吸收系数的变化量。变化量可以从绝对值的均匀分布,%的均匀分布和正常(Gaussian)分布(σ)中选择。这个软件是用 Mersenne Twister 随机数发生器。
可以同时观察有吸收的膜的表面侧、反面侧的特性来做设计。
平行边面基板的两面(又或单面)附著于膜时的合计特性。
不均匀(折射率斜面)设定。将游标放置在不均质的栏位上,将会跳出不均匀数据资料。
由Local search、Global search、Needle search三种最适化手法中选取实行最适化。Local search
使用 Levenberg-Marquardt 法,藉着边变更膜厚边找寻最适当解析。
Simulated Annealing Method 法与 Levenberg-Marquardt 法组合的手法,在local search 的途中,将膜厚随意变更、避免陷入非本来解的局部解结果。
Needle 层的插入→local search→needle 层的插入→local search 的反覆循环。
由分光光度计测量的光谱反射率和光谱透射率计算出基板或薄膜的 nk。
计算无吸收的基板的折射率(n) 计算没有膜的基板的折射率。在基板上无吸收时使用。需要是单面mat基板或双面研磨基板。· 计算具有吸收作用的基板的折射率(n),吸收係数(k)和内部透射率(Ti) 在基板上有吸收时使用。需要是单面mat基板或双面研磨基板。· 单层膜的 nk 分析 从光谱反射率和光谱透射率,通过对色散公式进行曲线拟合来分析膜的n,k和膜厚度(d)。添加了仅分析正常色散(折射率随波长变短而增加色散)的选项。· 单层金属薄膜的 nk 计算 由正面反射率和背面反射率算出金属膜的 nk。膜必须足够厚且透射率为零。
读写分光光度计测定资料夹,将可显示于坡长曲线图。既可将使用分光光度计分光光度计测定的资料与设计值放于同一曲线图做比较。测定值为相对值时,可变换为绝对值。
Hitachi UV1 files and UV-Solutions files(*.UDS, *.UDA), Shimadzu SPC files, Olympus-USPM files(*.dat, *.csv), Jasco JWS files, Ocean-Optics OOi-Base32 files, csv files, tab separated text files.
1381基板data为事先预设。SCHOTT, OHARA, HOYA, SUMITA, HIKARI, CDGM(成都光明), APEL, ZEONEX, PMMA, Polycarbonate, etc. 您也可以注册自己的数据。
下记膜物质data为事先预设。Ag, Al2O3, AL, Au, Cr, Cu, H2, H4, LaF3, M3, M3-RT, MgF2, Nb2O5, Nb2O5-RT, OH5, OH5-RT, OS50, OS50-RT, SiO2, Ta2O5, Ta2O5-RT, Ti, TiO2, Zn, ZnS, ZrO2, Cytop, Al2O3(KTM), HfO2(KTM), LaF3(KTM), Ti3O5(KTM), ZrO2(KTM), ZRT2(KTM),KTM: Kyoto Thin-Film Materials Institute 您也可以注册自己的数据。
3层等価膜
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