第22期线上培训招生 | Ansys Zemax 成像设计课程 最新升级!

为更好地培养行业人才,武汉宇熠在原有 Zemax 成像设计培训的基础上进行了课程提炼和升级培训由宇熠高级光学工程师主讲,针对序列成像设计,帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。

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本次培训会根据最新的 Ansys Zemax 功能特色,结合当今实际的镜头设计过程中可能碰到的问题,来给大家总结出一些最新的解决方案。不仅有理论上的知识分享,还有更多的实操环节,以理论结合实践的方式,提高大家的学习效率。

此外我们还会给大家介绍 Ansys Zemax 同 Ansys旗下其他软件如 Lumerical、Speos 联合仿真的可能性。(点击查看最新软件合集)


培训大纲


0 1

· Ansys Zemax OpticStudio 简介

· 数据库;镜头库,材料库
· 玻璃材料以及如何定义新材料
· 像差简介以及Ansys Zemax中的像差图表
· 优化原理和优化向导
· 局部/全局/锤形优化/优化操作数
· 实例:单透镜/双透镜的建模和优化
· 热分析和消热差优化
· 二元面及衍射光学表面
· 鬼像及杂散光分析
· 调制传递函数MTF和成像质量评估
· 双高斯镜头的设计与优化,图像模拟功能
· Ansys Zemax中的坐标系统
· 坐标间端面及其使用技巧
· 序列模式中的棱镜模型


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0 2

· 实例:扫描振镜

· 实例:投影系统设计,科勒照明系统设计
· 混合模式和非序列模式
· 黑盒系统
· Ansys Zemax中的快速优化工具
· 寻找最佳非球面/转换非球面类型
· 公差分析简介
· 制造误差和装配误差
· 公差评价标准
· 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析
· 公差补偿器
· 公差操作数
· 实例:对单透镜/库克三片镜进行公差分析

· 公差报告详解
· 公差脚本简介
· 镜片/CAD制图

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培训信息








主办单位:武汉宇熠科技有限公司

培训主题:Ansys Zemax 成像设计

培训形式:线上培训

培训时间:2022年11月29~30日 (9:00-17:00)

培训费用:¥ 1980元 / 人 

(三人及以上组团报名可享八折优惠)、

报名方式:扫码报名


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 注意: 如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。





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    武汉宇熠科技是 ANSYS 全线产品中国区官方指定代理商,提供 Ansys Zemax、Ansys Lumerical、Ansys Speos 等软件的培训、销售、技术支持、二次开发、解决方案及这些软件相关全方位定制服务。点击查看全新服务!从光学设计到打样生产的整套解决方案

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销售热线:027-87878386

咨询邮箱:sales@ueotek.com


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