第24期线上培训招生 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
面对疫情的新形势
武汉宇熠培训体系全新升级
2023线上培训课程即将火热来袭!
为适应我国光电行业飞速发展的需要,提高我国光学设计人员的专业水平,武汉宇熠将在2023年2月23日-24日举办线上培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。
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Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析 | ||
2023年2月23日-24日 | ||
课时 | 第一天 | 第二天 |
01 | 00 课程介绍; 01 非序列光线追迹; 02 光源物体; 03 探测器物体; 04 分辨率 VS 噪声; 05 照明单位 & 几何量; |
22 复杂几何体; 23 嵌套规则; 24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体; 25 CAD 导入 & 导出;26 使用混合模式; |
02 | 06 光源建模; 07 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型; 08 光源建模:Source Radial; 09 光源建模:内置几何模型; 10 光源建模:使用测量数据; |
27 偏振光线追迹; 29 光线分裂; 30 X-Cube 棱镜;31 简单光线分裂实例; 32 非序列设置; |
12:00-14:00 午休时间 | ||
03 | 11 生成 Source Model 光线; 12 模拟光源光谱; 13 色度学; 14 建模彩色光源;15 测量颜色数据; 16 照明系统; 17 抛物面反射器; |
33 故障排查:光线追迹中止条件; 34 故障排查:几何错误; 35 “Inside of”标识; 36 胶合距离;37 故障排查:面元物体 & 绘图精度; 38 序列模式转换成非序列模式; |
04 | 18 Sobol 采样; 19 BMP 位图优化; 20 复合抛物面聚光器 CPC; 21 背光模组物体阵列 & 光源阵列]; |
39 杂散光分析介绍; 40 散射; 41 杂散光分析工具; 42 非序列鬼像分析; 43 非序列系统公差分析; |
主办单位:武汉宇熠科技有限公司
培训主题:Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
培训形式:线上培训
培训时间:2023年2月23~24日 (9:00-17:00)
培训费用:¥ 1980元 / 人
(三人及以上组团报名可享八折优惠)、
报名方式:扫码报名
注意: 如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
接下来,还将有海量的线上线下培训等着大家参与,关注公众号【UEOTEK】不要错过开课信息!(点击查看:武汉宇熠2023年度培训计划!)
武汉宇熠科技是 ANSYS 全线产品中国区官方指定代理商,提供 Ansys Zemax、Ansys Lumerical、Ansys Speos 等软件的培训、销售、技术支持、二次开发、解决方案及这些软件相关全方位定制服务。(点击查看:全新服务!从光学设计到打样生产的整套解决方案)
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