基于椭圆偏振法的光学薄膜测量
椭圆偏振法是一种光学测量方法，它利用了光在被表面反射（或透过）时发生的偏振变化，例如块状材料或薄膜。随着时间的推移，它在半导体和光学涂层应用中得到了普及，因为与传统的反射测量相比，它的灵敏度更高。因此，椭圆偏振法现在被用来准确地表征不同样品的成分、粗糙度、厚度、结晶特性、导电性和其他材料特性。
在最新发布的快速物理光学软件VirtualLab Fusion 2023.1中，椭圆偏振分析器已被添加到该软件不断增加的功能阵列中。它提供了一个简单明了的方法，通过在模拟产生的电磁场结果上应用椭圆偏振的概念来研究涂层、多层结构和光栅的特性。此外，它还提供了在分析仪内自动扫描波长和入射角的可能性，从而方便地生成典型的椭圆偏振曲线，这些曲线在拟合到一个模型后，可以继续揭示我们试图从这些实验中获得的材料特性。你可以在下面找到解释如何使用这个新的分析仪的文件链接，以及一个应用于二氧化硅涂层测量的例子。
本用例展示了椭圆偏振法的基本原理，并说明了VirtualLab Fusion中内置的椭圆仪分析器的使用。
SiO2涂层的可变角度光谱椭圆偏振（VASE）分析
本用例说明了在VirtualLab Fusion中实现的椭圆偏振分析器在文献中的使用：Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999).
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