TRCX:掺杂过程分析 张艺凡 1月4日 浏览:776 在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 (a)FIB (b) 掺杂前后对比