通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要

 

在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。

 

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图1

场景

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图2

 

在VirtualLab Fusion中构建系统

系统构建块

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图3

 

组件求解器

 

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图4

 

 

 

系统构建块

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图5

 

总结

 

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图6

 

几何光学仿真

通过光线追迹

 

结果:光线追迹

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图7

 

快速物理光学仿真

通过场追迹

 

在盖玻片的最后一个界面之前聚焦

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图8

 

聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图9

 

在盖玻片的最后一个界面之前聚焦

 

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图10

 

聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图11

 

总结

 

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图12

 

文件信息

通过高NA浸没显微镜进行聚焦的图13

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