JCMsuite案例展示：衰减相移掩膜的仿真分析

JCMsuite案例展示

衰减相移掩膜的仿真分析

在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示：

 

掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。

掩模的布局是由一个描述衬底吸收层和上层的多层膜组成的。两个平行四边形用于定义包括移相器的开口。

掩模是在正入射的S和P偏振情况下模拟的。对于入射方向的定义，使用光瞳面的典型西格玛坐标:

 

由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。

相位分布如下图所示:

 

相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差:

在项目文件中，设置傅里叶变换后处理，得到掩模的透射衍射阶数: