网络研讨会回顾 | Ansys Zemax OpticStudio 2025 R1新功能更新（免费观看视频）

4月8日下午，Ansys Zemax OpticStudio 2025 R1新功能网络研讨会圆满落幕！本次会议聚焦 Zemax 2025 R1版本的全新升级，为光学设计师带来更高效、更智能的解决方案。以下是核心内容回顾👇

亮点功能速览

（1）应力双折射分析（企业版专属）

• 功能验证：新增企业版功能，支持仿真机械应力对光学系统（如激光器、高精度镜头）的偏振影响，助力提升复杂系统的可靠性。

（2）序列与非序列模式协同优化

• 功能验证：序列模式下的复合表面（如自由曲面）现可直接转换为非序列模式，并统一为Grid Sag格式，简化跨模式设计流程，减少数据转换误差。

（3）公差分析效率升级

• 机械旋转轴点定义：支持直接指定元件绕自定义轴旋转，简化光学装调公差设置。
• 一键生成蒙特卡洛文件：自动化生成公差分析脚本，减少手动操作耗时。

（4）用户体验优化

• 深色主题模式：降低弱光环境下的视觉疲劳，延长移动设备续航（实测支持Windows/Linux系统）。
• 官方中文帮助手册：本地化支持再升级，降低中文用户学习门槛。

（5）光纤耦合功能增强

• 功能验证：FICL操作数新增界面参数交互功能，支持直接调用光纤耦合设置，提升分析精度与灵活性。

（6）光学-机械协同设计

• 功能验证：新增光线数据导出至CAD格式（如STEP、IGES），便于机械工程师精准定位光学元件，减少跨团队沟通成本。

（7） 性能与资源扩展

• FFT MTF加速40%-80%：通过算法优化与多线程支持，大幅缩短成像系统分析时间。
• 材料库更新：新增多家供应商的最新材料数据，扩展了镜头和涂层目录，为设计提供更多选择。

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