技术 | CPU与顶盖(IHS)是如何焊接的?来自德国超频达人的详细分析(图文详解)!

这篇文章来自德国的超频达人、开盖狂魔der8auer(名称来自德文“der Bauer” [dɛɐ̯ ˈbaʊ̯ɐ],“农民”或“建造者”),而他的资料来源于Intel在2006年发的文章:
以下是节选编译。
一、为什么要有顶盖?
CPU的顶盖被称为集成散热器(Integrated Heat Spreader,IHS),从名字就能看出来,它是帮助CPU散热的。CPU芯片(die,常被称为裸片、核心)的表面积很小而发热却不小,需要有效地把热量传导出去。
另一个问题是,如果CPU散热器(台式机)直接安装在芯片上,对小小的芯片施加压力,有可能造成印制电路板(PCB)的变形,使其与主板CPU底座的连接不稳。顶盖在这里起到了平摊压力的作用。
二、有顶盖的CPU大概是个什么结构?
图1:C4倒装片封装
不同的材料热胀冷缩的程度不同,底部填充胶起到了必要的固定作用,避免芯片的损坏。
顶盖通过黏合剂固定在电路板上,这种固定不是死的,使其可以有限地热胀冷缩而不损坏芯片。
三、顶盖用什么材料来做?
铜是个不错的选择,导热系数达到400 W/(m*K),而价格不高。
四、拿什么把硅和铜焊接到一起?
图2:原料硅 [powerguru.org]
[译注:此节数据不一定准确]
硅和铜的性质差异很大,
1.硅的导热系数不低,有150 W/(m*K),而热(线)膨胀系数较小,为2.6 µm/(m*K);
2.铜的热(线)膨胀系数达16.5 µm/(m*K),是硅的6倍多,也就是说,铜的热胀冷缩更为明显。
对铜的焊接很常见,比如焊电路板时常用的锡焊。
图3:Sn60Pb40 有铅焊锡 [pollin.de]
可是我们遇到了问题:焊锡和硅焊不到一起。
另一个麻烦是,焊锡在凝固的过程中会收缩,有可能损坏芯片。
图4:铟锭 [bloomfieldknoble.com]
幸运的是,有(且目前仅知)一种材料既能焊铜也能焊硅:铟。
1.铟在凝固时不会缩得太厉害,减小了问题(但问题依然存在)。
2.铟的导热系数不如铜高,但也达到了 81.8 W/(m*K),而一般的导热膏只有5~10 W/(m*K)。
3.铟的延展性好,在顶盖与芯片中间起到缓冲的作用,避免铜与硅热胀冷缩程度不同造成的损坏。
4.铟的熔点约157 ℃,比常见的锡铅合金低,比低温回流焊用的锡铋合金高。
铟可真棒不是吗?但是用铟也有一些要考虑的地方:
1.铟暴露在空气中会像铝一样形成一层氧化层;
2.铟的全球年产量不到1000吨(金有3000吨),十分稀有而昂贵(2014年约800美元/千克)。
3.视CPU尺寸而定,铟的原材料成本即达2-5美元。
[译注:铟在科技领域应用广泛,最大的用途是液晶屏的生产。铟的故事还很多,比如液态金属,比如IGZO显示屏,比如半导体前沿的砷化镓铟,比如泛亚有色金属交易所,比如我国是铟第一大产国……]
五、顶盖的预处理
问题变得复杂了,有很多需要考虑的地方。
图5:开盖后的CPU [xtreview.com]
可以看到,实际的CPU顶盖并不显铜的颜色,这是因为铜的表面镀了一层镍。镍在这里主要起到扩散阻挡层(diffusion barrier)的作用,阻止铜原子的迁移。同时镍也具有抗氧化、抗腐蚀、增强硬度与耐磨性的作用。
但是铟和镍不太焊得来,为了结合得更紧密,又需要再来一层易润湿(浸润)的金属,比如金、银或钯——都是些贵金属。
金和铟比较容易形成合金,也是实际生产中的选择:
图6:镀金的顶盖,镀层厚度约1-3 µm [overclocking.guide]
六、钎料的预处理
铟表面的氧化层可用盐酸处理。
铟必须有足够的厚度(约1mm),避免在多次冷热交替后出现裂痕。
七、芯片的预处理
如果将铟直接焊到硅上的话,铟将扩散入硅中,影响半导体性质乃至损坏芯片。所以需要在芯片表面再添一个阻挡层。
这个阻挡层包含的材料更为丰富:钛、镍和钒。
在阻挡层之上,为了与铟结合,又需要一层金。
[译注:原文在行文顺序上有一定迷惑性。铟在此处作为钎焊料并非出于其对铜与硅的良好润湿性,而是其较低的熔点与良好的延展性,与金结合后焊接牢固(粘附极佳)。铟作为特殊焊料在集成电路领域有重要地位]
八、焊接前后的状态
图7:焊接前的各层材料 [overclocking.guide]
上图注解:
顶盖:镍、铜、镍、金
钎料:铟
芯片:金、镍钒合金、钛、硅
焊接的温度控制在170 ℃左右。温度过低会导致填隙不良,温度过高会永久损坏CPU。
一些材料会在焊接过程中形成合金,焊接完毕后的结果如图:
图8:焊接后的各层材料厚度 [overclocking.guide]
上图注解:
镍(20µm)、铜(2mm)、镍(20µm)、铟镍金合金(0.1µm)、
铟金合金(2.5µm)、铟(1mm)、铟金合金(0.5µm)、铟镍金合金(2µm)、
镍钒合金、钛、硅
至此,顶盖与芯片焊接完毕,大功告……成?
九、可能出现的问题
图9:铟在凝固过程中对顶盖与芯片的互相拉扯,夸张图示 [Intel]
需要注意的是,在焊接顶盖与芯片的同时,顶盖与电路板也粘合固定了。铟在凝固过程中不可避免地要收缩,往往造成边角的质地不均匀。
图10:温度循环造成的钎料中的空洞 [Intel]
上图注解:
1.焊接后(下线成品,end-of-line)、中度的温度循环后、剧烈的温度循环后
2.剧烈的温度循环(冷热交替)对钎料造成了显著影响,张力使其内部产生了空洞。
3.空洞降低了导热性能并增加了热阻(Rjc),最终将会出现微裂纹,通常从四角开始。
图11:剧烈的温度循环造成的微裂纹,照片总宽度约400µm [Intel]
上图注解:
Crack 裂纹、Solder TIM 钎料(导热界面焊料)、Die Corner 芯片的一角
此处一个温度循环为-55 ℃至125 ℃,并各保持15分钟。
在没有镀金层的情况下,数个温度循环后即出现钎料脱层。
(在有镀金层的情况下)200至300个温度循环后开始出现微裂纹,对四角处的热阻提升明显。微裂纹将会不断增多,直至其作为导热界面材料的功能失效。
空洞与微裂纹对整体散热的危害程度与焊接面积有关,较小的芯片面积(小于130 mm²)会受其影响十分显著,而较大的芯片面积(大于270 mm²)则受影响甚微。
图12:在剧烈的温度循环后,较小的面积下热阻增加明显 [Intel]
译注
德国超频达人der8auer写这篇文章的缘由非常有DIY精神:
他想给i7 6700K极限超频;
他给6700K开了盖,他想上液氮;
在低于-190 ℃的低温下,液态金属无法正常工作,甚至导热膏也不能;
他开始查资料、学习、折腾,试图把顶盖焊到6700K上。
可喜的是,与顶盖焊接后的6700K在常温风冷下表现良好(跟液金差不多);
可惜的是,在液氮下的测试失败了,他“试图寻找原因”但未见下文。
虽然没有达到目标,却也不白折腾,der8auer留下了这篇雄文,使得爱好者社群炸开了锅,之后流传甚广,以至于Google搜索“cpu solder”或者“cpu soldering”出来的第一篇就是此文。
而关于Intel为何不再使用钎焊,文章自然也顺着思路给出了答案:越来越小的芯片面积(die-size)和越来越薄的印制电路板(PCB)。
当然这个答案并不足以服众,有人倾向于技术原因,有人倾向于商业原因,众说纷纭。而本文的重点在于CPU与顶盖的焊接本身,便不多着墨。

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