疫情期间，为防止聚集所造成的病毒传染，也为了满足各位小伙伴对于 Zemax 成像设计的学习热情，武汉宇熠特地开展了线上直播培训活动——“ Zemax 成像设计线上培训”。活动主要针对序列成像设计，帮助学员掌握优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换等知识点。
培训大纲
01 OpticStudio 软件功能介绍; 02 材料库、镜头库介绍； 03 如何定义新材料； 04 如何使用镜头库； |
23 柯勒照明综合设计实例； 24 投影系统设计 25 集光系统设计； 26 暗盒系统介绍； |
05 像差理论介绍； 06 Zemax 里像差分析图谱； 07 优化; 08 局部优化 |
27 分析工具应用； 28 寻找最佳非球面 29 曲率套样板； 30 镜头匹配工具； |
09 全局优化； 10 锤形优化； 11 优化函数架构技巧； 12 单透镜优化实例 |
31 Zemax 公差分析功能介绍; 32 加工误差、装配误差； 33 灵敏度分析; 34 反灵敏度分析; |
13 双胶合优化实例； 14 热分析及衍射光学元件的使用; 15 实例设计及分析； 16 MTF |
35 蒙特卡罗分析; 36 公差评价标准； 37 公差操作数； 38 补偿变量的使用； |
17 双高斯镜头设计及优化； 18 像质评价与图像模拟； 19 坐标变换； 20 坐标断点面的使用技巧 |
39 单透镜公差分析； 40 库克镜头公差分析； 41 分析报告查看说明； 42 公差脚本的使用； |
21 序列模式棱镜建模； 22 扫描反射镜设计实例； |
43 镜头出图、CAD 出图； 44 小结及答疑 |
适合哪些人学习？
1.从事光学设计的工程师；
2.理工科学子。
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我们能学到什么？
培训主要针对序列成像设计，帮助学员掌握优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换等知识点
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